Enhancing Ordering Dynamics in Solvent-Annealed Block Copolymer Films by Lithographic Hard Mask Supports

机译：通过光刻硬掩模支撑增强溶剂退火的嵌段共聚物薄膜的有序动力学

机译：从二元二嵌段共聚物胶束的溶剂退火薄膜中层状球体纳米结构的一步式层次组装。

机译：对称二嵌段共聚物的溶剂退火薄膜的形貌

机译：调整超薄支持嵌段共聚物膜的动态

机译：嵌段共聚物薄膜中的缺陷和动力学：对环境控制原子力显微镜的聚合物图案演化研究

机译：自组装共聚物吸附层诱导薄膜中的嵌段共聚物纳米结构

机译：提高溶剂退火嵌段共聚物薄膜的有序动力学   光刻硬掩模支持

机译：用于形成硬掩模的基于聚亚芳基醚的嵌段共聚物组合物以及使用由其形成的硬掩模作为蚀刻掩模的半导体器件的制造方法

机译：基于聚醚的基于嵌段共聚物，用于形成包含相同成分的硬掩模的组合物，以及使用以硬掩模为模板的硬掩模作为蚀刻掩模来制造半导体器件的方法

机译：利用双硬膜膜制造CMOS图像传感器的方法，该方法能够通过形成具有不同厚度的像素区域和逻辑区域的硬膜膜来去除硬膜膜去除过程